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可以说EUV光刻机已经成为了现在炙手可热的美光先进产品,基于EUV打造的更新工艺V工高频芯片产品也将成为行业的标杆,不过大家平时熟悉的全新基于EUV光刻打造的芯片为各种处理器,事实上如今DRAM颗粒也开始陆续引入EUV工艺,制程以取得更加出色的首次受超频率以及传输带宽,以满足AI计算与推理所需的引入艺严苛性能需求,目前美光就表示引入了EUV工艺用于DRAM颗粒的内能享制造,从而让大容量内存也能实现超高频率。存也
根据美光自己的美光说法,目前内存的更新工艺V工高频制造工艺已经进化到1γnm,与处理器所采用的全新制程工艺有所不同的是,内存颗粒的制程制程工艺通常都是小步快跑,按照现在的首次受超进度差不多最先进的制程为10nm,而1γnm就是引入艺一个接近10nm工艺的一个工艺,当然除了美光之外,内能享三星以及海力士已经在数年之前将EUV工艺进入到DRAM颗粒的制造之中,当然目的就是为了让DRAM颗粒的性能更加出色,与上代工艺相比,1γnm可以实现最高30%的晶体管密度提升。
与CPU一样,先进工艺可以让产品的频率达到一个新的高度,对于内存也同样如此,过去高频内存通常用于主流内存容量,例如16GB以及32GB,而一些面向服务器或者工作站内存尽管容量很大,但是其频率却并不高,一方面是为了保持内存的稳定,还有一方面就是制程工艺没到火候,如今随着DRAM颗粒工艺制程的提升,生产兼顾超高频以及大容量内存也就成为了可能,据悉美光可以实现让128GB容量的内存频率在9200MHz。
显然这些内存是为了AI运算等高性能应用场景做准备,有了它们,AI厂商在从事AI训练以及推理也将得心应手,从而达到更高的效率。